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集成电路辐射改良加工,半导体改良改性的电子束预辐射损伤可通过电子束的光学变形、光电转换和电磁波的传输，使其发生改性，从而提高其增益。半导体改良改性利用电子束预辐射损伤，辐射改性等相关工艺，来提高电子器件的增益，反向电压，恢复时间，开关速度以及降低少子寿命，反向漏电等，使电子器件改性。半导体改良改性装置具有稳定性、安全性、加工能力强、射线利用率高、剂量分布均匀、加工速度快、功率大等特点, 其性能达到国内水平,年无故障工作时间达小时, 可保障稳定的加工能力。

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