镀膜机厂家|实惠的精密光学镀膜设备，恒誉真空倾力推荐， 肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司成立于2012-07-23，拥有可靠的产品服务和过人的产品质量，生产供应的精密光学镀膜设备拥有用户需求的性能，提供颇具竞争力的制造成本。作为一家有限责任公司，公司屹立于机械和行业设备专用配件行业领域已多年，为地为中小企业的产品设计提供帮助，公司依靠科技进步和严格管理，完善的服务，为用户提供优异高能的精密光学镀膜设备。

恒誉真空是一家具有实力的精密光学镀膜设备生产企业，一直把满足客户要求作为企业经营的核心，严把质量关口，努力提率是我们的目标。我司坚持不懈，努力为中小企业提供适应市场需求的精密光学镀膜设备。“创新产品种类，严格质量控制”，公司遵循着这样的原则，持续为客户提供有口碑的精密光学镀膜设备。

镀膜机厂家，

磁控溅射是物理中气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

磁控溅射定义

在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场，借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射的过程。

磁控溅射原理

磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下最终沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。

恒誉真空技术力量雄量，制造设备精良，检验手段成熟，现已发展成为集设备研发、生产制造、销售服务于一体的高新技术企业。恒誉真空依靠高素质的员工，健全的工艺设备，完整的质量管理体系，产品售出后质保一年的售后服务，不断开拓创新，为广大中小企业提供可靠的精密光学镀膜设备。

镀膜机厂家|实惠的精密光学镀膜设备，恒誉真空倾力推荐， 肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司坐落于肇庆市高要区金渡镇世纪大道交警中队西侧，是一直专注于精密光学镀膜设备生产和研发的公司，产品的质量与服务都深受众多中小企业满意认可。我司努力提高售后服务质量 , 提升客户满意程度。如您想选购优异的精密光学镀膜设备，欢迎前来咨询，我们有相关方面可靠人员为您介绍我们的产品。