北京艾特奥科技发展有限责任公司成立于2009年,是一家集ITO粉、ITO靶材、研发、生产和销售于一体的高科技企业,我公司与北京航空航天大学建立了长期、紧密的合作关系,依托于北京航空航天大学的科研技术力量并在北京航空航天大学内建立实验室、共同致力于新材料领域的发展与进步。我公司采用均相共沉淀法（掺铌纳米铟锡氧化物粉末及其高密度溅射镀膜靶材的制备方法已申请国家专利）研制生产的ITO粉、ITO靶材在其纯度、细度、导电性能上均达到国际领先水平。,,随着公司的不断发展壮大,赢得了广大客户的信赖与支持,在此